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取得重大进展。 （SMEE），一家中国公司，从事芯片制造技术。 SMEE开发出了能够制造28纳米芯片的光刻机。 这一成就被视为中国努力促进半导体产业和减少对外国技术依赖的重要一步，特别是考虑到美国的制裁。这一进展标志着中国半导体技术与国际领先技术之间的技术差距大幅缩小。 DNP 开发 3nm EUV 光刻光掩模工艺 由大日本印刷株式会社开发(DNP) 一种用于 3 纳米 EUV 光刻的新型光掩模制造工艺。这一进步满足了半导体市场对越来越薄的电路线宽度的需求。


DNP 的历史包括在 2016 年成为第一家推出多光束掩模写入工具 (MBMW) 的商业光掩模制造商，并在 2020 年开发用于 5nm EUV 光刻的光掩模工艺。 新工艺利用改进的制造技术和数据校正技术来支持复杂的弯曲图 购买马约特岛电子邮件地址 案结构，这对于 EUV 光刻至关重要。 DNP计划于2024年下半年开始运营新的MBMW，目标是到2030年年销售额达到100亿日元。 结论 紫外光刻 (EUVL) 是一项突破性技术，彻底改变了微芯片的制造方式。它使用非常短波长的光在硅晶圆上创建微小而复杂的图案，这对于制造更小、更快和更强大的电子设备（例如智能手机和计算机）至关重要。




这项技术的开发具有挑战性且成本高昂，但它对半导体行业产生了重大影响。英特尔、三星和台积电等公司正在使用 EUVL 来制造先进芯片。高数值孔径 EUV 光刻等创新技术允许更小、更详细的图案，从而使这些芯片变得更好。 由于对先进电子产品的需求不断增长以及对更强大的计算技术的需求，EUVL 市场正在快速增长。 关于TTC 在TT Consultants，我们是定制知识产权 (IP)、技术情报、商业研究和创新支持的领先提供商。我们的方法将人工智能和大型语言模型 (LLM) 工具与人类专业知识相结合，提供无与伦比的解决方案。